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? ? ? ?2022年9月27日，2022年度上海市質(zhì)量協(xié)會質(zhì)量技術(shù)獎獲獎名單公布。上海計量院 “集成電路材料關(guān)鍵質(zhì)量參數(shù)的檢測體系研究與應(yīng)用”項目榮獲綜合類質(zhì)量創(chuàng)新成果優(yōu)秀獎。

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　　上海市質(zhì)量協(xié)會質(zhì)量技術(shù)獎圍繞重點產(chǎn)業(yè)、重點領(lǐng)域質(zhì)量提升工程以及質(zhì)量技術(shù)基礎(chǔ)建設(shè)等方向，獎勵本市企事業(yè)單位在質(zhì)量技術(shù)創(chuàng)新領(lǐng)域做出突出貢獻的項目成果和個人。

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　　“集成電路材料關(guān)鍵質(zhì)量參數(shù)的檢測體系研究與應(yīng)用”項目通過研究國際先進材料的質(zhì)量體系、剖析先進工藝流程參數(shù)、調(diào)研國內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)使用材料的質(zhì)量要求，進而確定了我國集成電路材料的關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)。結(jié)合高純試劑的質(zhì)量控制方案，通過開發(fā)采樣和前處理方法，優(yōu)化實驗環(huán)境質(zhì)量控制的方案，細(xì)化檢測步驟，優(yōu)化設(shè)備參數(shù)等，形成了以痕量陰陽離子、顆粒為關(guān)鍵參數(shù)的集成電路材料質(zhì)量體系。開發(fā)了包含濕電子化學(xué)品、光刻膠、拋光液中關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)，如：痕量陽離子、陰離子、顆粒的檢測方法，突破了痕量檢測技術(shù)的瓶頸，滿足10nm-14nm工藝制程的質(zhì)量要求。

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　　集成電路材料是集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)，也是集成電路產(chǎn)業(yè)有序發(fā)展的保障。該項目突破了產(chǎn)業(yè)內(nèi)多個“卡脖子”的關(guān)鍵難題，解決了材料上下游關(guān)鍵參數(shù)不明確、質(zhì)量要求不一致的問題，打通了產(chǎn)業(yè)上下游的質(zhì)量體系，打破了國外對材料驗收的技術(shù)壁壘，能夠較好地服務(wù)于集成電路材料國產(chǎn)化驗證項目和重要國產(chǎn)材料替代項目，助力國內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)的高質(zhì)量發(fā)展。

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《轉(zhuǎn)載上海計量院》

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